Top
PIC/S規範

區 域

區 域 說 明

A級

高風險作業的局部區域,例如,充填區、橡皮塞貯盆、開口安瓿及小瓶、執行無菌連接。通常,此種條件由層流工作站/檯提供。在使用開放潔淨室(open clean room application)的工作位置,層流空氣流動系統應提供每秒0.36至0.54公尺(指引值)的均勻空氣流速。
層流性(laminarity)的維持應予證明(uni-directional air flow)及較低速率得使用在密閉的隔離裝置及手套箱(glove boxes)。

B級

對於無菌製備及充填,這是A級區域的背景環境。

C級與D級

在無菌產品的製造中,執行較非關鍵性階段的潔淨區。
PIC/S GMP ANNEX1 GENERAL
 

靜態

動態

等級

每立方公尺等於或大於下述粒徑之微粒最大允許量
  0.5μm 5μm 0.5μm 5μm

A

3,520 20 3,520 20

B

3,520 29 352,000 2,900

C

352,000 2,900 3,520,000 29,000

D

3,520,000 29,000 未界定 未界定

依據Global GMP Standard Compliant Forum - 14th July 2010 – Modular GMP Cleanroom Design & ISO 14644

動態潔淨區之微生物監測的建議限量(a)
微生物汙染的建議限量(a)

等級

空氣樣品
cfu/m3

落菌培養皿
(直徑90mm),
cfu/4 時(b)

接觸培養皿
(直徑55mm),
cfu/培養皿

手套指印
印5根手指/手套
cfu/手套

A

<1 <1 <1 <1

B

10 5 5 5

C

100 50 25 -

D

200 100 50 -
註: (a)這些都是平均值
(b)個別的落菌培養皿暴露時間得少於4小時
Design By 元伸網頁設計
版權所有 © 2007-2014 鈦華科技股份有限公司 Module Clean Technology Co., Ltd. All Rights Reserved.